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Elveflow OB1 MK4的应用:为微流控血脑屏障芯片精准流体控制解决方案

2026-04-20     来源:本站     点击次数:173


 
血脑屏障(BBB)是大脑的精密防护门,由内皮细胞、周细胞、星形胶质细胞等构成,守护中枢神经系统稳态。但它也成为脑疾病药物递送的最大关卡——98% 以上小分子药物无法穿透,传统 Transwell、动物模型又面临简化失真、种属差异、难以模拟剪切应力等痛点。

微流控血脑屏障芯片(BBBonchip)的出现,让体外高度复刻人脑生理环境成为可能。而让这颗芯片真正 “活” 起来的核心,正是Elveflow OB1 MK4 压力流量控制系统
 
一、为什么血脑屏障芯片,必须要「精准流体控制」?
理想体外 BBB 模型必须同时满足:
· 三维类血管内皮结构
· 细胞间真实相互作用
· 生理水平剪切应力
· 超薄多孔基底膜(~100 nm)

其中流体剪切应力直接决定内皮细胞形态、紧密连接表达、屏障功能完整性 —— 静态培养根本做不到。

传统蠕动泵脉动大、精度差、难长期稳定,极易损伤细胞、破坏屏障。而Elveflow OB1 MK4用压电式控制,把流速、压力、剪切应力做到毫秒级稳定、纳升至毫升级宽量程,完美匹配血脑屏障生理需求。

 
A.示意图:器件中央为组织腔室,两侧环绕两条独立的血管通道,并设有流体接入开口。
B.细胞培养示意图:展示该设计下的细胞共培养结构,上方为血管通道与内皮细胞,下方为组织腔室与星形胶质细胞,二者通过多孔界面的孔隙实现接触。
C. 实物图:器件组装于显微镜载玻片上,通过蓝色塑料管分别接入各血管通道与组织腔室

二、Elveflow OB1 MK4:血脑屏障芯片的「黄金流体引擎」
1. 压电核心:快、准、稳,碾压传统泵
· 压电调节阀:响应 < 10 ms,压力稳定性达 0.005% FS
· 无脉动、超平稳灌流:保护脆弱脑内皮,维持紧密连接
· 压力 / 真空双模式:覆盖 - 900~8000 mbar,适配多场景芯片

2. 精准剪切应力:让体外 BBB 更 “像人”
OB1 可精准复现体内血流动力学
· 稳定层流,可控剪切应力
· 支持动态灌流、脉冲流、振荡流
· 长期实验不掉压、不漂移,屏障完整性更真实

3. 闭环自动化:药物筛选从此「标准化」
搭配MUX 多路分配 / 循环模块与流量传感器,实现:
· 自动顺序进样(培养基 / 药物 / 纳米颗粒)
· 可编程循环灌流,降低污染风险
· 软件全自动运行,夜间 / 长周期无人值守
· 一键切换多浓度、多条件,通量大幅提升

 

 
、为什么顶尖团队都选 Elveflow OB1?
· 生理还原度拉满:精准剪切应力 + 动态灌流,BBB 功能更真实
· 零脉动呵护细胞:长期培养屏障更稳定、数据更可靠
· 全流程自动化:降低人为误差,提升实验通量
· 高兼容成像:适配共聚焦、活细胞工作站,实时观测
· 文献背书强劲:Lab on a Chip、Cells 等顶刊高频使用
 
 
静态 Transwell动态人源血脑屏障芯片,微流控正在改写神经药物研发规则。而Elveflow OB1 MK4以极致流体控制,成为连接体外模型与体内真实的关键桥梁,让大脑疾病机制更清晰、药物筛选更高效、转化更可期。

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